Intensive Ionenquelle zur Beschichtung von Substraten mit Nano-Strukturen für organische Elektronik

Ziel des KMU-innovativ Projekts ion-booster ist es, die Sprayintensität der Elektro-Spray-Deposition um den Faktor 100 zu erhöhen. Neben der Parallelisierung von Spraydüsen werden veränderte Geometrien und die Vernebelung unterstützende elektrische und Ultraschall-Methoden getestet. Durch Simulationen werden die optimalen Feldgeometrien ermittelt, um den Entwicklungsprozess zu steuern. Der meistversprechende Ansatz wird schließlich zu einem Spray-Prototypen weiterentwickelt. Perspektivisch soll er in das bestehende, selbst entwickelte Depositionssystem integriert werden.

ISAT wird erarbeiten, wie mit physikalischen Größen (Elektrische Felder und Ultraschall) das Sprühverhalten optimal beeinflusst werden kann. Hierbei soll insbesondere aus der Simulation die Düsen-Düsen-Wechselwirkung im elektrischen Feld erarbeitet werden. Ziel ist es für das ISAT eine Simulationsmethodik zu entwickeln (FEM basierte Multiparametrische Optimierung), welche eine effiziente Optimierung für den Fall erlaubt, in dem es viele Zielgrößen gibt. Beim Ultraschall steht die Beeinflussung des Tropfenbildungsprozesses im Fokus, welcher deutlich im Sub-Wellenlängenbereich liegt.